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Plasma Chemistry And Plasma Processing SCIE

國際簡稱：PLASMA CHEM PLASMA P  參考譯名：等離子化學和等離子處理

主要研究方向：工程技術-工程：化工  非預警期刊  審稿周期： 較慢,6-12周

《等離子化學和等離子處理》(Plasma Chemistry And Plasma Processing)是一本由Springer US出版的以工程技術-工程：化工為研究特色的國際期刊，發表該領域相關的原創研究文章、評論文章和綜述文章，及時報道該領域相關理論、實踐和應用學科的最新發現，旨在促進該學科領域科學信息的快速交流。該期刊是一本未開放期刊，近三年沒有被列入預警名單。

  • 3區 中科院分區
  • Q2 JCR分區
  • 123 年發文量
  • 2.6 IF影響因子
  • 未開放 是否OA
  • 57 H-index
  • 1981 創刊年份
  • Quarterly 出版周期
  • English 出版語言

Publishing original papers on fundamental and applied research in plasma chemistry and plasma processing, the scope of this journal includes processing plasmas ranging from non-thermal plasmas to thermal plasmas, and fundamental plasma studies as well as studies of specific plasma applications. Such applications include but are not limited to plasma catalysis, environmental processing including treatment of liquids and gases, biological applications of plasmas including plasma medicine and agriculture, surface modification and deposition, powder and nanostructure synthesis, energy applications including plasma combustion and reforming, resource recovery, coupling of plasmas and electrochemistry, and plasma etching. Studies of chemical kinetics in plasmas, and the interactions of plasmas with surfaces are also solicited. It is essential that submissions include substantial consideration of the role of the plasma, for example, the relevant plasma chemistry, plasma physics or plasma–surface interactions; manuscripts that consider solely the properties of materials or substances processed using a plasma are not within the journal’s scope.

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Plasma Chemistry And Plasma Processing期刊信息

  • ISSN：0272-4324
  • 出版語言：English
  • 是否OA：未開放
  • E-ISSN：1572-8986
  • 出版地區：UNITED STATES
  • 是否預警：否
  • 出版商：Springer US
  • 出版周期：Quarterly
  • 創刊時間：1981
  • 開源占比：0.0935
  • Gold OA文章占比：14.18%
  • OA被引用占比：0.0820...
  • 出版國人文章占比：0.18
  • 出版撤稿占比：0
  • 研究類文章占比：95.12%

Plasma Chemistry And Plasma Processing CiteScore評價數據（2024年最新版）

CiteScore SJR SNIP CiteScore 指數
5.9 0.48 0.912
學科類別 分區 排名 百分位
大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics Q1 108 / 434

75%
大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces, Coatings and Films Q2 34 / 132

74%
大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemical Engineering Q2 79 / 273

71%
大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemistry Q2 119 / 408

70%

名詞解釋：CiteScore 是衡量期刊所發表文獻的平均受引用次數，是在 Scopus 中衡量期刊影響力的另一個指標。當年CiteScore 的計算依據是期刊最近4年（含計算年度）的被引次數除以該期刊近四年發表的文獻數。例如，2022年的 CiteScore 計算方法為：2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的對2019-2022年發表的文件的引用數量÷2019-2022年發布的文獻數量 注：文獻類型包括：文章、評論、會議論文、書籍章節和數據論文。

Plasma Chemistry And Plasma Processing中科院評價數據

中科院 2023年12月升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
否 否 物理與天體物理 3區 ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區 3區 3區

中科院 2022年12月升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
否 否 工程技術 3區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 2區 3區 3區

中科院 2021年12月舊的升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
否 否 工程技術 3區 ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區 3區 3區

中科院 2021年12月基礎版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
否 否 工程技術 3區 ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 4區 3區 2區

中科院 2021年12月升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
否 否 工程技術 3區 ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區 3區 3區

中科院 2020年12月舊的升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
否 否 工程技術 3區 ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區 3區 3區

Plasma Chemistry And Plasma Processing JCR評價數據（2023-2024年最新版）

按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科：ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 91 / 170

46.8%
學科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179

55%
學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 12 / 40

71.3%
按JCI指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科：ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 55 / 171

68.13%
學科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179

61.73%
學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 17 / 40

58.75%

Plasma Chemistry And Plasma Processing歷年數據統計

影響因子
中科院分區

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免責聲明

若用戶需要出版服務，請聯系出版商：SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, USA, NY, 10013。

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