同大類學(xué)科其它級別期刊:
中科院 1區(qū) 期刊 JCR Q1 期刊 中科院 2區(qū) 期刊 JCR Q2 期刊 中科院 3區(qū) 期刊 JCR Q3 期刊 中科院 4區(qū) 期刊 JCR Q4 期刊國際簡稱:J VAC SCI TECHNOL B 參考譯名:真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報B
主要研究方向:工程技術(shù)-工程:電子與電氣 非預(yù)警期刊 審稿周期: 約3.0個月
《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報B》(Journal Of Vacuum Science & Technology B)是一本由A V S AMER INST PHYSICS出版的以工程技術(shù)-工程:電子與電氣為研究特色的國際期刊,發(fā)表該領(lǐng)域相關(guān)的原創(chuàng)研究文章、評論文章和綜述文章,及時報道該領(lǐng)域相關(guān)理論、實(shí)踐和應(yīng)用學(xué)科的最新發(fā)現(xiàn),旨在促進(jìn)該學(xué)科領(lǐng)域科學(xué)信息的快速交流。該期刊是一本未開放期刊,近三年沒有被列入預(yù)警名單。
Journal of Vacuum Science & Technology B emphasizes processing, measurement and phenomena associated with micrometer and nanometer structures and devices. Processing may include vacuum processing, plasma processing and microlithography among others, while measurement refers to a wide range of materials and device characterization methods for understanding the physics and chemistry of submicron and nanometer structures and devices.
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 | ||
否 | 否 | 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) |
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否 | 否 | 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) |
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否 | 否 | 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) |
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否 | 否 | 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) |
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 | ||
否 | 否 | 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) |
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 252 / 352 |
28.6% |
學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 115 / 140 |
18.2% |
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 134 / 179 |
25.4% |
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 278 / 354 |
21.61% |
學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 115 / 140 |
18.21% |
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 145 / 179 |
19.27% |
Author: Ma, Xiao; Choi, Hoi Wai
Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002245
Applied Thermal Engineering
中科院 2區(qū) JCR Q1
Thermal Science And Engineering Progress
中科院 3區(qū) JCR Q1
Acta Geotechnica
中科院 1區(qū) JCR Q1
Ieee Transactions On Industrial Electronics
中科院 1區(qū) JCR Q1
Separation And Purification Technology
中科院 1區(qū) JCR Q1
Engineering Letters
中科院 4區(qū) JCR Q4
International Journal Of Thermal Sciences
中科院 2區(qū) JCR Q1
Review Of Scientific Instruments
中科院 4區(qū) JCR Q3
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